این گزارش به بررسی مقاله ای با عنوان “نانوتوپوگرافی های مهندسی شده، باز شدن گذرا در غشای هسته را القا می کنند” می پردازد. این مقاله به بررسی پتانسیل مواد نانو توپوگرافی در ایجاد اختلالات موقت در غشای هسته سلول می پردازد.

چکیده

مقاله حاضر به بررسی مواد نانو توپوگرافی با ساختارهای مهندسی شده در سطح نانو می پردازد. این ساختارها شامل نانوستون ها، نانوسوزن ها و نانوسیم ها هستند. این مواد به تقلید از ساختارهای طبیعی مانند پروتئین های سنبله ویروسی می پردازند. این ویژگی به آنها اجازه می دهد تا از موانع بیولوژیکی مانند غشای پلاسمایی عبور کنند. این خصوصیات منجر به کاربردهای متنوعی در حوزه نانوالکترونیک شده است. از جمله این کاربردها می توان به حسگرهای داخل سلولی و سیستم های دارورسانی اشاره کرد. برخی از این کاربردها در حال حاضر در مراحل آزمایشات بالینی قرار دارند.

در این مطالعه، شواهدی ارائه شده است که نشان می دهد مواد نانو توپوگرافی قادر به ایجاد بازشدگی های موقت در غشاهای هسته سلول های مختلف هستند. این فرآیند بدون نفوذ مواد به داخل سلول رخ می دهد. این بازشدگی ها منجر به اختلال در سد هسته-سیتوپلاسمی می شوند. در نتیجه، تبادل مولکولی کنترل نشده ای در غشای هسته ایجاد می شود. این بازشدگی ها به دلیل انحنای نانومقیاس ایجاد می شوند. این پدیده موقتی بوده و توسط مکانیسم های ESCRT ترمیم می شود.

یافته های این تحقیق نشان می دهد که مواد نانو توپوگرافی می توانند به طور موقت غشای هسته را تحت تاثیر قرار دهند. این ویژگی می تواند کاربردهای بالقوه ای در حسگری هسته ای مستقیم و دارورسانی هدفمند داشته باشد.

مقدمه

مواد با توپوگرافی سطح در مقیاس نانو، به دلیل توانایی در تعدیل تعاملات سلول-ماده، بسیار مورد توجه قرار گرفته اند. این مواد با ارائه نشانه های فیزیکی خاص، نحوه تعامل مواد با سیستم های بیولوژیکی را تغییر می دهند.

ساختارهای نانو توپوگرافی مانند نانوستون ها و نانوسوزن ها، از ساختارهای طبیعی مانند پروتئین های ویروسی الگوبرداری شده اند. این ویژگی به آنها امکان عبور از موانع سلولی مانند غشای پلاسمایی را می دهد.

مواد نانو توپوگرافی کاربردهای گسترده ای در حوزه های مختلف پیدا کرده اند. این کاربردها شامل نانوالکترونیک برای حسگرهای داخل سلولی و بسترهای دارورسانی در شرایط آزمایشگاهی و بدن موجود زنده می شود. برخی از این کاربردها به مرحله آزمایشات بالینی رسیده یا به صورت تجاری در دسترس هستند.

پچ های مسطح با نانوساختارهای سه بعدی، الکترودهای نانولوله ای و نانوذرات سنبله دار، نمونه هایی از کاربردهای این مواد هستند. این ساختارها در دارورسانی، الکتروفیزیولوژی و افزایش جذب سلولی مورد استفاده قرار می گیرند.

مطالعات متعددی به بررسی تعامل مواد نانو توپوگرافی با غشای پلاسمایی پرداخته اند. این مطالعات نشان داده اند که هندسه این ساختارها می تواند باعث تغییر شکل غشا، نفوذ و افزایش اندوسیتوز شود. با این حال، تعامل این مواد با سایر اندامک های سلولی هنوز به طور کامل شناخته نشده است.

تحقیقات اخیر نشان داده است که نانو توپوگرافی می تواند اندامک های سلولی مانند هسته را تغییر شکل دهد. این تغییر شکل می تواند منجر به بازسازی غشای هسته شود. مطالعات نشان داده اند که نانوستون های شیشه ای می توانند فرورفتگی های نانومقیاس در هسته سلول های زنده ایجاد کنند. عمق این فرورفتگی ها به ابعاد نانوستون ها و سفتی هسته بستگی دارد.

همچنین، نانوسوزن های سیلیکونی مزوپور می توانند عناصر هسته ای را تغییر دهند. این تغییر می تواند منجر به تجمع پروتئین لامین A/C در نوک نانوستون ها شود. شکل غیرعادی هسته در حضور نانوستون ها می تواند نشانگر بیماری هایی مانند سرطان باشد.

این مطالعات نشان می دهند که نانو توپوگرافی به طور مستقیم بر ساختار و عملکرد بخش های مختلف سلول، از جمله هسته، تاثیر می گذارد.

در این مقاله، محققان به ارائه اولین شواهد مبنی بر توانایی مواد نانو توپوگرافی در ایجاد اختلال در سد هسته-سیتوپلاسمی می پردازند. این اختلال از طریق ایجاد بازشدگی های موقت در غشای هسته و بدون نفوذ به سلول رخ می دهد. این فرآیند منجر به تبادل موقت و کنترل نشده مولکول ها بین هسته و سیتوپلاسم می شود.

محققان نشان داده اند که بازشدگی ها ناشی از انحنای نانومقیاس در غشای هسته است. این انحنا را می توان با تغییر ابعاد نانوستون ها و زمان تعامل آنها با سلول کنترل کرد. همچنین، نشان داده شده است که این مواد می توانند غشای هسته انواع مختلف سلول را تحت تاثیر قرار دهند. این اختلالات موقتی بوده و توسط مکانیسم های ESCRT ترمیم می شوند.

این یافته ها می تواند راه را برای روش های جدید در حسگری هسته ای و دارورسانی هدفمند با استفاده از مواد نانو توپوگرافی باز کند. محققان پیشنهاد می دهند که با کنترل دقیق زمان و مدت بازشدگی و ترمیم غشای هسته، می توان مولکول ها را به طور مستقیم به هسته سلول ها منتقل کرد. این امر می تواند تحولی در درمان های هدفمند ایجاد کند.

نتایج و بحث

انحنای ناشی از نانو توپوگرافی، عامل اصلی نقض غشای هسته

در این تحقیق، نانوستون ها با استفاده از روش لیتوگرافی و اچینگ خشک و مرطوب ساخته شدند. جزئیات ساخت این نانوستون ها در مقالات قبلی و بخش مواد و روش ها ارائه شده است. تصاویر میکروسکوپ نوری و الکترونی روبشی (SEM) از نانوستون ها، مناطق نانوستون و مناطق صاف را نشان می دهند. مناطق صاف به عنوان گروه کنترل در این مطالعه استفاده شدند. این امر امکان مقایسه مستقیم بین مناطق دارای نانو توپوگرافی و مناطق بدون آن را فراهم می کند.

مطالعات پیشین نشان داده اند که نانوساختارها می توانند انحنای نانومقیاس در غشاهای سلولی و هسته ای ایجاد کنند. نتایج میکروسکوپ الکترونی روبشی با پرتو یونی متمرکز (FIB-SEM) و میکروسکوپ کانفوکال فلورسنت، این یافته ها را تایید می کنند. سلول های رشد یافته بر روی نانوستون ها، انحنای مثبت و منفی را در غشاهای هسته خود نشان می دهند. همچنین، مطالعات نشان داده اند که اعمال نیروی نانومقیاس به غشای هسته با استفاده از میکروسکوپ نیروی اتمی (AFM) می تواند منجر به پارگی هسته شود.

بر اساس این مشاهدات، محققان فرضیه ای را مطرح کردند. آنها معتقد بودند که انحنای ایجاد شده توسط نانو توپوگرافی در زمان چسبندگی و گسترش سلول، می تواند باعث نقض غشای هسته شود. این نقض غشا می تواند منجر به تبادل غیرقابل کنترل مواد بین هسته و سیتوپلاسم گردد.

برای بررسی این فرضیه، از گزارشگر پارگی هسته ای Ku-80 استفاده شد. پروتئین Ku-80 به طور معمول در هسته سلول قرار دارد. در صورت پارگی غشای هسته، این پروتئین به سیتوپلاسم نشت می کند.

نتایج نشان داد که سلول های مختلف (U2OS, HeLa, HEK-293, siLMNA iPSC-CM) که بر روی نانوستون ها کشت شده بودند، نشت پروتئین Ku-80 به سیتوپلاسم را نشان دادند. این امر نشان دهنده ایجاد بازشدگی در غشای هسته بود. در مقابل، غشای پلاسمایی این سلول ها سالم باقی ماند. عدم نشت Ku-80 به خارج از سیتوپلاسم، این موضوع را تایید می کند. مناطق صاف پلتفرم کشت سلول که فاقد نانوستون بودند، هیچ نشتی از Ku-80 را نشان ندادند.

برای کمی سازی میزان بازشدگی هسته، از روش ایمونواستینینگ استفاده شد. مرزهای هسته و سیتوپلاسم با استفاده از رنگ های DAPI و اکتین مشخص شدند. سپس، نسبت میزان Ku-80 در سیتوپلاسم به هسته محاسبه گردید. افزایش قابل توجه در این نسبت، به عنوان شاخصی از بازشدگی هسته در نظر گرفته شد.

تجزیه و تحلیل داده ها نشان داد که سلول های U2OS کشت شده بر روی نانوستون ها، نسبت سیتوپلاسمی به هسته ای Ku-80 به طور قابل توجهی بالاتری (0.169 ± 0.005) نسبت به سلول های کشت شده بر روی سطوح صاف (0.093 ± 0.002) داشتند. این یافته نشان دهنده وقوع بالای نقض غشای هسته در حضور نانوستون ها است. سلول های HeLa نیز روند مشابهی را نشان دادند. نسبت Ku-80 در سیتوپلاسم به هسته در سلول های HeLa کشت شده بر روی نانوستون ها (0.129 ± 0.018) به طور معنی داری بیشتر از سلول های کشت شده بر روی سطوح صاف (0.023 ± 0.002) بود. این نتایج نشان می دهد که پدیده نقض غشای هسته محدود به سلول های U2OS نیست.

این یافته ها نشان می دهد که تعامل سلول با نانو توپوگرافی می تواند منجر به بازشدگی غشای هسته شود. این پدیده بدون نیاز به محرک خارجی رخ می دهد. به احتمال زیاد، این بازشدگی ها به دلیل انحنای نانومقیاس ایجاد شده توسط نانو توپوگرافی ها ایجاد می شوند. در ادامه، محققان به بررسی این موضوع پرداختند که آیا انواع مختلف سلول با ویژگی های ساختاری متفاوت نیز این نوع نقض غشای هسته را در حضور نانوستون ها تجربه می کنند یا خیر.

انواع مختلف سلول، بازشدگی غشای هسته ناشی از انحنا را نشان می دهند

برای بررسی گستردگی تاثیر نانو توپوگرافی در ایجاد بازشدگی غشای هسته، محققان انواع مختلفی از سلول ها را مورد مطالعه قرار دادند. این سلول ها شامل سلول های اپیتلیالی (U2OS, HeLa, HEK-293)، سلول های بنیادی مشتق شده از قلب (siLMNA iPSC-CM) و سلول های فیبروبلاست (NIH-3T3) بودند. این سلول ها از نظر ساختار و شکل ظاهری، ویژگی های متفاوتی دارند.

نتایج نشان داد که تمامی انواع سلول های بررسی شده، بازشدگی غشای هسته ناشی از انحنا را در حضور نانوستون ها نشان دادند. در سلول های اپیتلیالی و سلول های بنیادی قلبی، بازشدگی غشای هسته با جابجایی پروتئین Ku-80 از هسته به سیتوپلاسم قابل مشاهده بود. در مقابل، در سلول های NIH-3T3، پروتئین Ku-80 به طور عمده در سیتوپلاسم قرار داشت. پس از ایجاد نقض غشای هسته توسط نانوستون ها، بخشی از Ku-80 به هسته منتقل شد.

این نتایج نشان می دهد که نانو توپوگرافی ها می توانند در انواع مختلف سلول، بازشدگی غشای هسته را القا کنند. همچنین، این نتایج نشان دهنده تبادل دو طرفه پروتئین ها بین هسته و سیتوپلاسم در زمان نقض غشای هسته است.

کنترل بازشدگی غشای هسته با تنظیم هندسه نانوستون و زمان تعامل

پس از اثبات توانایی نانو توپوگرافی ها در القای بازشدگی غشای هسته در انواع مختلف سلول، محققان به بررسی پویایی زمانی این پدیده پرداختند. آنها تعداد سلول های با غشای هسته نقض شده را در زمان های 1، 5 و 8 ساعت پس از کشت سلول های U2OS بر روی نانوستون ها اندازه گیری کردند.

نتایج نشان داد که در زمان 1 ساعت، درصد کمی از سلول ها بازشدگی غشای هسته را نشان می دهند. با گذشت زمان، میزان نقض غشا افزایش یافت. درصد سلول های با غشای هسته نقض شده از 6.5% در ساعت اول به 20.5% در ساعت پنجم رسید. بین ساعات 5 و 8، تغییر قابل توجهی در این درصد مشاهده نشد.

برای درک بهتر مکانیسم این پدیده، محققان از میکروسکوپ کانفوکال برای اندازه گیری عمق فرورفتگی و حداکثر انحنای غشای هسته در زمان های مختلف استفاده کردند. نتایج نشان داد که عمق فرورفتگی از 1.57 ± 0.19 میکرومتر در ساعت اول به 2.53 ± 0.24 میکرومتر در ساعت پنجم افزایش می یابد. بین ساعات 5 و 8، تغییر قابل توجهی در عمق فرورفتگی مشاهده نشد. این روند مشابه تغییرات درصد سلول های با غشای هسته نقض شده بود.

این نتایج نشان می دهد که عمق فرورفتگی بیشتر، با احتمال بالاتر نقض غشای هسته مرتبط است. عدم افزایش درصد سلول های با غشای هسته نقض شده بین ساعات 5 و 8، به دلیل عدم افزایش عمق فرورفتگی در این بازه زمانی، این فرضیه را تایید می کند.

علاوه بر این، میزان حداکثر انحنای غشای هسته به طور پیوسته از 0.65 ± 0.15 میکرومتر در ساعت اول به 1.59 ± 0.41 میکرومتر و 2.34 ± 0.84 میکرومتر در ساعت هشتم افزایش یافت. این نشان می دهد که قرار گرفتن طولانی مدت در معرض نانوستون ها، انحنا و تغییر شکل غشای هسته را افزایش می دهد. این افزایش انحنا و تغییر شکل، منجر به افزایش احتمال نقض غشای هسته می شود.

محققان همچنین به بررسی تاثیر گسترش سلول و هسته بر روی نانوستون ها بر میزان نقض غشای هسته پرداختند. آنها مساحت و شکل سلول و هسته را در زمان های 1، 5 و 8 ساعت اندازه گیری کردند.

مساحت سلول بین ساعات 1 و 5 تغییر چندانی نکرد. اما شکل سلول به طور قابل توجهی تغییر کرد. این تغییر شکل نشان دهنده تغییر شکل سلول در اطراف نانوستون ها در این بازه زمانی است. مهمتر از آن، تغییرات قابل توجهی در مساحت و شکل هسته بین ساعات 1 و 5 مشاهده شد. این تغییرات با افزایش میزان نقض غشای هسته همزمان بود. این شاخص ها بین ساعات 5 و 8 تغییر نکردند. این موضوع نشان می دهد که گسترش و تغییر شکل هسته، عامل کلیدی در نقض غشای هسته در حضور نانوستون ها است.

در حالی که مساحت و شکل سلول بین ساعات 5 و 8 به طور قابل توجهی تغییر کرد، این تغییرات با افزایش بیشتر در میزان نقض غشای هسته همبستگی نداشت. این یافته نشان می دهد که تغییرات در ابعاد و شکل هسته، نه تغییرات سلول، عامل اصلی در نقض غشای هسته در حضور نانوستون ها هستند.

در مجموع، این نتایج نشان می دهد که نقض غشای هسته به تعامل نزدیک بین سلول و نانوستون ها بستگی دارد. سطح نانوستون ها باید برای چسبندگی سلول و تغییر شکل آن در اطراف نانوستون ها مناسب باشد. همچنین، میزان نقض غشای هسته را می توان با تنظیم زمان تعامل بین نانوستون ها و سلول ها کنترل کرد.

مطالعات قبلی نشان داده اند که نانوستون های کوچکتر با قطر کمتر از 600 نانومتر و فاصله بیشتر از 3 میکرومتر، می توانند انحنای بیشتری در غشای هسته ایجاد کنند.

در این مطالعه، محققان به بررسی تاثیر اندازه نانوستون ها بر میزان نقض غشای هسته پرداختند. آنها با استفاده از اچ مرطوب ایزوتروپیک، ابعاد نانوستون ها را کاهش دادند و سایر عوامل را ثابت نگه داشتند. آنها درصد سلول های با غشای هسته نقض شده را بر روی نانوستون های بزرگ (ارتفاع 4.7 میکرومتر، قطر 1.30 میکرومتر) و کوچک (ارتفاع 3.18 میکرومتر، قطر 0.515 میکرومتر) مقایسه کردند.

نتایج نشان داد که با کاهش اندازه نانوستون ها، درصد سلول های با غشای هسته نقض شده از 12% به 78% افزایش می یابد. در مقابل، سطوح صاف هیچ نقضی را نشان ندادند. نانوستون های کوچکتر عمق فرورفتگی کمتری (2.58 میکرومتر) نسبت به نانوستون های بزرگتر (3.41 میکرومتر) ایجاد می کنند. با این حال، میزان حداکثر انحنای غشای هسته در نانوستون های کوچکتر (3.15 میکرومتر) به طور قابل توجهی بیشتر از نانوستون های بزرگتر (2.243 میکرومتر) بود.

به نظر می رسد انحنای بیشتر ایجاد شده توسط نانوستون های کوچکتر، عامل اصلی در افزایش میزان نقض غشای هسته باشد. با وجود اینکه نانوستون های بزرگتر فرورفتگی عمیق تری ایجاد می کنند، انحنای کمتر آنها منجر به کاهش میزان نقض غشا می شود. این یافته نشان می دهد که اگرچه عمق فرورفتگی در آسیب مکانیکی غشای هسته نقش دارد، اما میزان انحنا، عامل تعیین کننده اصلی در احتمال ایجاد بازشدگی در غشا است.

برای بررسی تاثیر تغییرات مساحت و شکل سلول و هسته بر میزان نقض غشای هسته در نانوستون های کوچکتر، این ویژگی ها در سلول ها مقایسه شدند. نتایج نشان داد که سلول های روی نانوستون ها، مساحت گسترش کمتری نسبت به سلول های روی سطوح صاف دارند. این تفاوت در مساحت گسترش، مستقل از اندازه نانوستون ها بود. تفاوت قابل توجهی در مساحت سلول بین نانوستون های کوچک و بزرگ مشاهده نشد.

همچنین، مشخص شد که گردی سلول و هسته، به جای مساحت گسترش، بین نانوستون های کوچک و بزرگ متفاوت است. این یافته نشان می دهد که شکل خاص سلول و هسته که توسط اندازه نانوستون ها ایجاد می شود، می تواند در نقض غشای هسته نقش داشته باشد.

ترمیم سریع غشای هسته پس از نقض ناشی از نانو توپوگرافی

در ادامه، محققان به بررسی موقتی بودن نقض غشای هسته ناشی از نانوستون ها پرداختند. با استفاده از تصویربرداری زنده از سلول هایی که پروتئین NLS-GFP را به عنوان گزارشگر پارگی هسته ای بیان می کردند، مشاهده شد که غشای هسته در حدود 1.5 ساعت پس از نقض، خود را ترمیم می کند.

فرآیند ترمیم با کاهش تدریجی نسبت NLS-GFP سیتوپلاسمی به هسته ای پس از نقض قابل مشاهده بود. پس از 1.5 ساعت، NLS-GFP به طور کامل به هسته بازگشت. این امر نشان دهنده موفقیت مکانیسم ترمیم است. همچنین، شروع رویداد پارگی با بیان موضعی پروتئین cGAS-mCherry همزمان بود. پروتئین cGAS-mCherry به DNA آزاد شده در سیتوپلاسم در محل نقض متصل می شود.

پروتئین cGAS حتی پس از ترمیم کامل غشای هسته و بازگشت NLS-GFP به هسته، در محل نقض باقی ماند. این یافته با مطالعات قبلی که حضور مداوم cGAS در محل های پارگی غشای هسته در سلول های سرطانی مهاجر را نشان داده بودند، مطابقت دارد.

در نهایت، با استفاده از میکروسکوپ دو فوتونی، محققان نشان دادند که ماشین آلات ترمیم ESCRT-III، به ویژه CHMP4B، به محل بازشدگی غشای هسته جذب شده و در ترمیم غشا نقش دارند.

در مجموع، این نتایج نشان می دهد که بازشدگی های غشای هسته ناشی از نانو توپوگرافی قابل ترمیم و موقتی هستند.

نتیجه گیری و چشم انداز آینده

غشای هسته به عنوان یک سد اصلی در تنظیم تبادل مولکولی بین سیتوپلاسم و هسته عمل می کند. عبور از این سد برای انتقال مواد به هسته سلول و کاربردهای حسگری داخل هسته ای بسیار مهم است. در این مطالعه نشان داده شد که نانو توپوگرافی می تواند به طور موقت غشای هسته انواع مختلف سلول را نقض کند. همچنین، با تنظیم هندسه و زمان تعامل نانوستون ها با سلول ها، می توان میزان نقض غشای هسته را کنترل کرد.

تحقیقات آینده بر انتقال مستقیم مولکول های زیستی مختلف به هسته سلول با استفاده از نانو توپوگرافی متمرکز خواهد شد. با قابلیت مشاهده مستقیم رویدادهای بازشدگی و ترمیم هسته، می توان این رویدادها را با رویدادهای انتقال مواد به هسته مرتبط کرد. این امر امکان طراحی هوشمندانه نانو توپوگرافی ها برای انتقال مواد به هسته در انواع مختلف سلول را فراهم می کند. نتایج این مطالعه نشان می دهد که این روش می تواند در انواع مختلف سلول برای کاربردهای درمانی گوناگون مورد استفاده قرار گیرد.

منبع: Engineered Nanotopographies Induce Transient Openings in the Nuclear Membrane

دیدگاهتان را بنویسید

نشانی ایمیل شما منتشر نخواهد شد. بخش‌های موردنیاز علامت‌گذاری شده‌اند *

این فیلد را پر کنید
این فیلد را پر کنید
لطفاً یک نشانی ایمیل معتبر بنویسید.

فهرست